二手 TEL / TOKYO ELECTRON Lithius #9351478 待售

TEL/TOKYO ELECTRON Lithius是一种用于半导体和光掩模制造的光阻设备。该系统采用先进的直接写入激光光刻（DWL）单元，以创建细纹抗蚀剂。它具有25nm的分辨率能力,适合在设备和光掩模制造中创建最新的纳米级特性。TEL Lithius机器是光刻技术的最新产品，提供了极高分辨率、高通量、低成本的光刻工具。这一资产用途广泛，可用于各种不同的抗蚀剂过程，从传统的正/负光致抗蚀剂到干膜光致抗蚀剂和自旋涂层光致抗蚀剂。除了提供先进的光刻技术外，TOKYO ELECTRON Lithius模型还提供了卓越的工艺控制，并配备了板载计量设备来监控抗反射率。抵抗模式的过程从光刻胶的照明开始。锂系统利用聚焦激光器和光学单元精确对准激光束以绘制光刻胶图样。这台机器能够编写一个单一的抵抗模式，最好的特征大小为25 nm。然后干洗的集成工具可以在开发步骤之前从基板上清除任何杂质和其他抗蚀剂。一旦开发出抗蚀剂，它就可以与车载计量资产进行平面化和金属化。TEL/TOKYO ELECTRON Lithius的专有计量学模型提供了对抗蚀剂反射率的反馈，以优化基板对金属沉积过程的条件。计量设备还能够监测蚀刻速率、蚀刻均匀性和金属沉积速率。一旦光致抗蚀剂系统完成其抗蚀剂图样和金属沉积过程，可以进行化学机械平面化、蚀刻和电介质沉积等附加的后处理步骤。然后将生成的设备准备好进行包装并运送给客户。总之，TEL Lithius先进的设计和处理能力使其成为任何半导体或光掩模制造工艺的绝佳选择。凭借其卓越的分辨率、高通量和计量单元性能,这台机器可以帮助加快设备的创建,同时减少周期时间和成本。