二手 TEL / TOKYO ELECTRON Lithius #9397192 待售
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ID: 9397192
晶圆大小: 12"
优质的: 2005
System, 12"
Material / Chemical:
Operating system: LINUX / Windows
SMIF
Hard Disk Drive (HDD) missing
Process: HT-PYRO (1250C)
Safety: TEL Standard
Layout type: U/Box
Tool direction: LL
Front furnace body: Coating (FDP Standard)
Heater [Range of temperature]: High VMU-40-007EXT(41) [850-1250°C]
Process:
Pressure: ATM
Temperature: 1250°C
Wafer / Cassette transport:
SEMI Standard - Notch, 12"
T/S Wafer jump out detection
Fork type / Material: 1+4 / Al203
Wafer In / Out order: ED -> P -> M / M -> P -> ED
Cassette:
Miraial (MK-823S-H)
Slot: 26
Stocker: 21
Monitor cassette:
In P1, P2, M / Out P1, P2, M
Fork :
Wafer detection
Wafer displacement detection
Pitch conversion
Hardware composition:
Load module:
(4) TEL / SEMES Standard load ports
(1) TEL / SEMES Standard loader arms
Transfer module (platform):
(5) TEL / SEMES Standard transfer robot arms
Process module:
TEL / SEMES Chamber process module specification
(17) Pumps
RF Generator
Gas box
PC
Utility:
Distribution panel
THC
Chiller
(2) Chemical boxes
ETC
Parts and tool
Module:
(4) PM1 Soft bakes
(5) PM2 PEB
(5) PM3 Hard bakes
(3) PM4 ADH
(5) PM5 COT
(5) PM6 DEV
(1) PM7 WEE
(1) PM8
(1) PM9
Litho tool:
Lens
Laser
Light source
Alignment
Power
2005 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON Lithius是一款用于制造和生产半导体和其他电子相关元件的前沿光刻设备。光致抗蚀剂是一种光敏聚合物，用于各种微加工和光刻工艺。TEL Lithius系统由四个主要组件组成：液晶显示屏（LCD）成像仪、对准器、步进工具和跟踪单元。LCD影像仪使用先进的光学器件来生成高精度的图像掩码。生成的图像数据（称为版面）已编程到液晶显示屏中。然后将布局投影到光刻涂层晶片上，平版印刷过程开始。为确保精确定位，液晶屏成像仪经过了8倍放大的测试，对准精度优于1微米，这在精密元件的生产中很重要。该对齐器用于将光刻涂层晶片精确定位到步进器工具上。这是用视觉机器和晶片处理程序执行的，这两者都能够按照预定的步骤快速准确地移动晶片。对齐器还利用局部电极雾化器（LEA）工具，在光刻涂层晶片对齐时尽量减少图样的破坏。步进工具是资产的核心。它包括一个先进的步进头与电动底座，精密级和高分辨率显微镜。步进头负责控制照明和为步进工具供电，而底座则使晶圆能够安全、精确地移动。显微镜允许定位和对准光刻涂层晶片，并且能够成像尺寸小至十分之一微米的特征。TOKYO ELECTRON Lithius模型的最后一个部件是轨道设备。这是负责分发在光刻过程中使用的化学品。轨道是一个平台系统，它按精确、有序的顺序向适当的工作站分发化学品，如显影剂和光致抗蚀剂。这有助于确保生产过程的一致性和准确性。综上所述，锂单元是用于生产半导体和其他电子相关元件的最先进的光刻机。其LCD图像仪提供精确的图像定位和对准，而对准器便于光刻涂层晶片的精确定位。步进工具确保精确成像和控制，跟踪工具以有序和统一的方式分发化学品。这些组件共同确保了光刻涂层组件的正确和高效生产。
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