二手 TEL / TOKYO ELECTRON Mark 7 #143980 待售
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ID: 143980
晶圆大小: 8"
优质的: 1995
Coater / Developer system, 8"
Process: PIX Coat
Software Version: MK807.38
System Power Rating: 208 VAC 3-Phase
Loading Configuration: 4 Loader Uni Cassette
System configuration:
Clean track Mark7
Mark 7 main body
Carrier station 1 x 4 side loading
UPS applicable for AC power box upgrade
Process station block
High speed interface station for canon es3
Wafer edge exposure (wee)
Inline thickness measurement system
Car applicable system closed environment
Solvent supply system for cot unit
(CSS to 3 liter buffer tank*2 sets auto supply system)
Dev solution supply system
(CSS to 3 liter buffer tank*2 sets auto supply system)
NH3 monitor specification
Photo resist coater unit (2 cups)
(1 nozzle per cup with RDS pump for cot 2-1, 2-2 & 2-3)
(1 nozzle per cup with cyber pump for cot 2-1)
Coater cup temperature synchronized control system
Developer unit (2 cups)
(E2 nozzle + normal rinse nozzle; 1set)
Degas module installation
Adhesion unit (ADH)
Hot plate
Cool plate
Precision hot plate (PHP)
Precision chilling hot plate (PCH)
Air control kit for PCH & PHP
Trancision chilling plate (TCP)
External chemical cabinet
Temperature & humidity controller esa-4 (CAR)
Temperature control unit (TCU)
Software options
On-line software (TEL-GEM standard)
Advance cascading software option
Parallel processing software option
Process log software option
TEL S2-93 safety specification
1995 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON MARK 7光抗蚀剂设备是一种用于在半导体晶片上创建图像的系统。这个单元使用两种不同类型的光刻胶，正色调（Positive Tone）和负色调（Negative Tone），来在晶圆上涂上感光材料，根据使用的类型对不同波长的光作出反应。机器结合了两种不同的技术在晶片上创建图像：Photo Masks和Direct Write。照片面罩是印在胶片上的图桉。然后，胶片位于光源和晶片之间，根据使用哪种类型的光致抗蚀剂，光线会被阻挡或允许通过遮罩，从而影响晶片上的光致抗蚀剂。Direct Write是一种计算机控制的工具，它使用精细的聚焦光束直接在晶圆上绘制图样。TEL MARK7 Photoresist Asset由几个组件组成,包括质量流模块（MFM）、负载锁和定向模型、微调器、机器人类型自动转换设备（RTCS）、掩码对齐器和直接写入系统。MFM测量与光刻胶烧杯相关的几个参数，如温度、气体流量和压力，并根据需要进行调整。Loadlock and Orientation Unit将晶片置于旋转器中指定的位置。Spinner高速旋转晶片，在表面上提供均匀的光致抗蚀剂涂层。机器人自动更换机自动用新鲜的光刻胶代替旧的烧杯.口罩对齐器接收胶片口罩并将其聚焦到晶片上。最后，直接写入工具使用激光根据预定参数在晶片上绘制图样。不需要的光致抗蚀剂然后用清洁工艺除去，这通常涉及酸的溷合物。整个过程只需几秒钟，就能产生亚微米特性。TOKYO ELECTRON MARK-7 Photoresist Asset是用于在半导体晶片上创建图像以制造集成电路的众多系统之一。它非常精确、可靠、高效，彻底改变了半导体产业。
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