二手 TEL / TOKYO ELECTRON Mark 7 #9098203 待售

TEL/TOKYO ELECTRON MARK 7光抗蚀剂设备是一种用于各种半导体器件制造工艺的最先进的制图技术。该系统将先进的光刻和蚀刻技术与开创性的光刻化学相结合，产生了不到一百纳米的高度精确和精确的干蚀刻工艺。TEL MARK7装置采用独特的光刻胶片设计，对高攻击性的干蚀刻化学材料具有优异的抗性，但在细腻的基材上仍可提供高达0.1 um的高分辨率。光致抗蚀剂材料可以调整以处理不同的干蚀刻过程，如反应性离子蚀刻（RIE）、离子磨蚀刻和等离子体蚀刻，这取决于应用要求。此外,该机器还可配置用于各种光刻胶涂层,包括正音和负音光刻胶,以及化学放大光刻胶,从而实现更高的分辨率。TOKYO ELECTRON MARK-7石刻工具的设计提供了精确度和可重复性的结构蚀刻到不到一百纳米。该资产的特点是专有的激光扫描技术允许晶圆精确对准，消除了由于蚀刻和后处理而造成的昂贵的掩模不对准。TOKYO ELECTRON MARK 7还具有改进的特征轮廓精度和干蚀刻副产品的快速蚀刻后去除功能,从而加快了周转时间并提高了产量。此外，该模型经过设计和测试，以满足所有适用的环境要求，如欧盟的RoHS指令和REACH条例。最后，TEL/TOKYO TEL MARK-7设备提供了一个全面的软件包，以支持光刻胶图样制作过程。先进的软件工具,如自动抗蚀剂修剪和光学接近校正（OPC）工具,可帮助实现高精度的阵列和精确的OPC,以满足严格的设计布局要求。集成的无掩码技术进一步增强了TEL/TOKYO ELECTRON MARK7系统的工艺能力,从而实现了快速且经济高效的设备集成。