二手 TEL / TOKYO ELECTRON Mark 7 #9241222 待售
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TEL （TE） TEL/TOKYO ELECTRON MARK 7光刻胶设备（Photoresist Equipment）是一种半导体製造用于光刻胶薄膜层的沉积和图桉化的装置。它旨在满足当今半导体行业的先进需求,能够产生高分辨率图像和具有精确长宽比的图样。系统由三个主要组件组成：控制器、稳定表和光学室。控制器是单元控制和操作的主要组件，利用实时计算、数据分析和反馈信号满足严格的流程要求。稳定的工作台可确保在涂层和图桉化过程中准确放置基板。光学室负责成像过程，并对用于制图的激光束的路径长度和定位进行精确控制。TEL MARK7还具有多项功能,可提高性能和准确性。采用低温等离子体活化层来保证均匀的抗蚀层厚度，提高抗蚀剂对基板表面的附着力。使用高分辨率的二进制步进器和先进的光学腔室可以精确控制光照，从而形成高分辨率的模式。此外,机器还具有微调过程以获得所需的最终模式的功能。使用TOKYO ELECTRON MARK-7，用户可以实现尺寸小至0.125微米的薄膜层的精确微加工。凭借精确控制光照的能力，用户可以创建各种形状和特征大小的图层。该工具还支持广泛的操作参数，包括脉冲频率、光斑大小和曝光能量。这使得MARK7成为创建复杂形状和特征大小处理的合适资产。TEL/TOKYO ELECTRON MARK-7为用户提供了简单直观的用户界面，允许模型的简单设置和操作。设备还配有全面的诊断和控制系统，允许用户监控流程的每一步，并进行必要的调整。最后，TE TOKYO ELECTRON MARK7光致抗蚀剂装置为光致抗蚀剂的沉积和成型提供了有效的平台。它结合了先进的特性、先进的光学和全面的机器控制，使用户能够产生具有精确长宽比和特征大小的高分辨率图桉。这些特性使得TOKYO ELECTRON Mark 7成为制造薄膜设备和应用的理想工具。
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