二手 TEL / TOKYO ELECTRON Mark 7 #9250083 待售

TEL/TOKYO ELECTRON MARK 7是一种高度先进且用途广泛的光刻设备，常用于半导体製造。它能够生产复杂的金属、聚合物和/或结晶材料层，以便制造电子元件和其他复杂的微型装置。该系统由一个大型环境室内的一系列组件组成，该室设在一个洁净室设施内。该过程从一层薄薄的光刻胶材料开始，该材料被应用到器件基板上。底物再暴露于极紫外线（EUV）光脉冲下，从而触发光抗蚀剂内的反应。由于暴露在外，分子之间形成化学键，形成EUV光束中图样特有的形状。这种化学反应使光致抗蚀剂变硬，为过程中的下一步提供了掩模。然后将硬化的光致抗蚀剂暴露于化学蚀刻中，该化学蚀刻去除基材的任何暴露部分。蚀刻化学物质为气态或液态，沉积在基材上。在整个基板上重复蚀刻过程，直到将所需的形状蚀刻到材料中。这种化学蚀刻高度精确，可以进行高精度的监测和调节。值得注意的是，蚀刻过程允许形成复杂和精确的电路线路，这对于复杂的微型设备是必不可少的。接下来，剩余的光致抗蚀剂用等离子体灰烬除去，从而可以应用另一种材料沉积。这一阶段使用的材料通常是聚合物，由于其先进的工艺控制特性，可以非常精确地应用。该单元还允许材料选择优化，允许优化材料的电子特性，如电导率。TEL MARK7工艺的最后一步是金属层的沉积，如铝或铜。金属沉积过程类似于聚合物沉积过程，但涉及使用一种特殊的真空工具，称为溅射沉积机。该工具旨在为金属沉积在基板上提供有效的真空处理。值得注意的是，溅射沉积工具可以高度定制和控制，允许开发用于互连的复杂金属触点。与其他工艺不同的是，TOKYO ELECTRON MARK-7能够处理多层金属，允许形成更深层次的互连或构建多层结构。MARK7是生产复杂电子设备和微型设备的绝佳资产。它将光刻、聚合物沉积和金属沉积等几种技术结合成一种无缝工艺。这种对整个过程的紧密控制可确保系统输出的质量非常高,从而能够构建具有精确尺寸的复杂设备。