二手 TEL / TOKYO ELECTRON Mark 8 #9109451 待售

TEL/TOKYO ELECTRON MARK 8光抗蚀剂设备是为晶圆制造中先进的光致抗蚀剂加工而设计的。它为半导体工业的晶圆制造工艺提供了精密的光刻技术。TEL MARK8 Photoresist System使用高分辨率的掩模对准器来对准光刻胶薄膜,并将其暴露在晶片表面上。它配有高速激光器，提供光掩模与晶圆的精确对准。对准器还具有自动喷雾对准能力，具有可调的间距范围，以满足不同晶圆设计的要求。光致抗蚀剂材料保存在一个罐体中，该罐体可以设计成适合晶圆的大小。该材料被泵送到加热到所需温度的热室，然后转移到旋转站。光致抗蚀剂以受控速度旋转到晶片上，形成一层薄薄的光致抗蚀剂。同时，光致抗蚀剂从掩模对准器和直接成像工具中暴露在紫外线下，以实现所需的结果。这一过程被称为暴露光致抗蚀剂。TOKYO ELECTRON MARK-8 Photoresist Unit有一个称为"多层光刻胶喷雾"的功能，设计用于高精度晶圆制造过程。这一特性使光刻胶可以在晶圆上多层喷涂。每层喷涂暴露后，将材料加热或冷却以固定光刻胶层。然后将显影晶片转移到显影站，在那里应用化学显影剂，如碱性溶液，从晶片中剥离暴露的光致抗蚀剂。最终的结果是一个清洁晶片准备进一步处理。为了获得一致的结果，机器配备了温度和压力控制工具，以便更好地控制光刻胶工艺中的各个步骤。资产还附带各种软件工具，使用户能够从头到尾监控和控制光刻过程。TEL MARK-8 Photoresist Model还与其他各种晶圆制造设备兼容，确保了光刻工艺容易融入更大的晶圆制造过程。