二手 TEL / TOKYO ELECTRON Mark 8 #9155211 待售
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ID: 9155211
晶圆大小: 8"
优质的: 1995
Wafer coater, 8"
Carrier station type: Open cassette
Wafer loading type: Right to Left
Software version: MK8H2.78(MC) M8B9083D.00 (Block)
Coater unit:
Pump model: RRC
Nozzle count: 3
Development unit:
Dev nozzle: H-Nozzle
Dev nozzle Count: 2
Up/Down move: Cylinder
Rinse nozzle: Stream
1995 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON MARK 8光刻设备是为光刻沉积和处理而设计的先进光刻系统。它采用了先进的掩模投影技术，使微结构的光刻胶薄膜能够投影到硅片上的图样上。这使得它非常适合MEMS、光学和微流体设备等应用。该单元由基板级、遮罩投影机和防腐涂层工具组成。基板级用于将基板固定到位，能够控制基板的温度和湿度。掩模投影资产是模型的主要组成部分，由激光投影仪、对准光学器件和光学清洁维护设备组成。激光投影仪采用327纳米激光线，能够将高分辨率图样投射到基板上。对准光学器件用于将激光束对准掩模场，光学器件为光刻胶图样提供高精度。光学清洗和维护系统有助于清除沉积过程中的污染。抗蚀剂涂层单元用于将光致抗蚀剂材料涂在基板上。该机采用高压喷雾工具，将一层薄薄均匀的光刻胶涂在基板表面。喷雾装置配有多个喷嘴和一个计算机控制程序，确保光刻胶均匀准确地沉积。TEL MARK8 Photoresist Model的15年寿命精度保证为0.1 μ m,并提供可靠和准确的结果。适用于高精度光敏沉积应用。它在工业上被广泛用于3D打印、MEMS、光学、微流体设备等应用。
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