二手 TEL / TOKYO ELECTRON Mark 8 #9155226 待售
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ID: 9155226
晶圆大小: 8"
优质的: 1995
Wafer coater, 8"
Wafer loading type: Right to Left
Software version: MK8H2.78(MC) M8B9083D.00 (Block)
Coater unit:
Pump model: RRC
Nozzle count: 3
Development unit:
Dev nozzle: H-Nozzle
Dev nozzle Count: 2
Up/Down move: Cylinder
Rinse nozzle: Stream
1995 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON Mark 8是一种光刻设备，设计用于光刻和半导体制造工艺。它利用尖端技术将感光材料精确地暴露在光线中，从而在半导体晶片上创建图样和其他图像。该系统已被广泛应用于集成电路（IC）的制造，以及其他微电子元件和器件。TEL MARK8利用一个单元集成的数字激光源单元（DLSU）来产生一系列波长的激光，包括深紫外线范围内的激光。紫外线照射能量可以以微焦耳增量设置，从而使成像过程具有极好的分辨率。激光的可变视场（VFoV）允许范围广泛的曝光场尺寸，从几毫米到高达8英寸（200毫米），允许在光刻过程中增加灵活性和精度。机器还包括一个级机构，可以在三个轴方向（X、Y、Z）移动晶圆。结合激光源单元，这使得晶圆背面及其正面的感光材料能够精确、精确地曝光。该级还具有极低的热漂移，具有优异的上行时间性能和晶片到晶片的可重复性。TOKYO ELECTRON MARK-8还配备了全自动载荷锁（FALL），可以让多个晶片从主室快速、容易、安全地转移到加工室。FALL工具最多可容纳二十（20）个晶片,而半自动晶片装载机可将数量增加到五十（50）个。TEL MARK-8的处理选项是由手动旋钮或通过计算机驱动的设置,从而可以精确控制处理参数。资产还提供其他流程选项,包括高级排水方法、故障检测功能和模型诊断。最后,可以对设备进行定制以满足特定的客户要求,例如附加的过程参数、专用的硬件和软件以及其他附加功能。Mark 8是一种通用、高精度的系统，为光敏材料的精确曝光提供了卓越的精度、重复性和可靠性。通过优化这些曝光参数，该装置非常适合各种IC制造和微电子器件制造工艺。
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