二手 TEL / TOKYO ELECTRON Mark 8 #9161033 待售

TEL/TOKYO ELECTRON MARK 8光抗蚀剂设备是专为制造半导体器件而设计的自动化处理系统。它基于Class PB 1000处理平台,利用先进技术提供卓越的性能和可靠性。该设备的平台包括多种功能,如为所有类型的半导体制造过程预先配置配方的多过程功能、学习如何优化过程操作的智能过程控制引擎以及易于导航的图形用户界面。此外，该平台与所有类型的材料和工艺兼容，包括光刻、蚀刻、清洁和沉积工艺。TEL MARK8 Photoresist Machine利用多种特殊功能进行高效的光刻处理。它包括一个高精度的曝光工具，它能够精确地将光刻胶暴露在晶片上。这一资产可以准确控制光刻胶的曝光和曝光时间，从而确保产量。此外,它还配备了自上而下的流程监控模型,以实现卓越的流程控制和监控。该平台还包括预配置的基板保护设备。这保证了光致抗蚀剂经过均匀的涂层，使其特性即使经过生产过程也保持一致。平台的另一个重要特点是先进的光刻胶开发系统。这保证了光致抗蚀剂的开发没有任何过量残留物，其蚀刻速率得到优化。为了保证光刻胶加工的精确度，TOKYO ELECTRON MARK-8光刻胶单元配备了集成监控机。该工具监控光刻胶在晶片上的停留时间、曝光时间、环境温度和湿度。这有助于在整个生产过程中保持一致的光刻胶质量。TEL Mark 8 Photoresist Asset还附带了一系列集成工具，以简化生产流程。这些包括先进的机器控制功能、过程的自动化监控、集成警报和警告以及趋势分析。此外，该模型能够每小时处理多达50个晶圆，使其极具效率和成本效益。总体而言，TOKYO ELECTRON MARK 8光刻设备是生产半导体器件的自动化、高效、可靠的平台。能精确处理光刻胶，控制曝光和显影时间。此外,该平台还包括一组集成功能,旨在优化生产过程产量并节省宝贵的时间。