二手 TEL / TOKYO ELECTRON Mark 8 #9190379 待售
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ID: 9190379
晶圆大小: 8"
优质的: 1997
(3) Coaters / (2) Developers system, 8"
Flow: Right to left
Dual block
Type: Standard
System:
AC Cable length: 10 m
Signal cable length: 8 m
Tubing length: 8 m
EMO Signal logic: Normal close
Signal tower: (3) Colors (Red, green, yellow)
Coater:
Filter (Resist, solvent) status: ENTEGRIS
Pump type/status: 2-1 Coater R1, R2
Drain pipe connector type (PR Line): 1" (SUS)
Developer:
Developer dispense piping/tubing status:
3-2: 1/4" (Stream)
3-3: 1/4" (Spray)
DI Water dispense piping/tubing status: 3-2, 3-3: 1/4" (Stream)
Filter(DI,DEV) status: ENTEGRIS
Drain pipe connector type: PVC(¢ 32 x 25)
In-line with stepper/Scanner type: NSR
Thermo controller type: SMC (INR-244-112B)
Chemical box:
Solvent supply: Local
Developer supply: Local
EXH supply:
GEN
(12) SOL
Facility:
Power supply: AC 100/200 V, 60/75 A, 50/60 Hz, 1 Phase
1997 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON MARK 8是由TEL开发的先进光刻胶处理设备。它旨在在微电子工业的整个光刻过程中提供高效和精确的控制。TEL MARK8提供自动化晶圆传输机制、高质量的曝光和开发功能,以及大量的曝光后工艺选择。TOKYO ELECTRON MARK-8先进的半自动装填系统可以快速准确地更换镜头，并具备在曝光时补充精度的能力。其先进的晶片加载单元具有特定的晶片几何形状,在加载和卸载过程中可实现最大的芯片覆盖范围和低弯轮廓。MARK8的尖端曝光机为光刻工艺提供了关键的精度和精确度。通过高精度和高精度的LSI步进系统,该工具能够将需要使用高性能激光的亚微米分辨率的图样暴露在光刻胶上。这允许在晶圆上暴露精确的模式。总体而言,TEL Mark 8的曝光资产效率很高,可以提供更多的生产吞吐量和更少的停机时间。TEL MARK-8还提供了一种先进的暴露后处理模式，其中包括使用过程，如蚀刻、烘烤、灰化和确认。该设备能够使各种暴露后过程自动化,从而能够针对客户的各种需求进行重复使用和微调。这最终允许更高的质量和精确的结果与更短的周期时间。MARK-8是为了提供最大的可重复性,同时确保高度的准确性。该系统的关键功能包括暴露和暴露后治疗,旨在协调工作,在不牺牲安全性的情况下提供最佳效果。总体而言，Mark 8是一个高度先进和高效的光刻胶处理单元。它提供了快速、准确的曝光、自动化晶圆传输能力和曝光后处理机器，允许高质量的结果，周期时间更少。这使得它成为微电子和半导体制造的绝佳选择。
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