二手 TEL / TOKYO ELECTRON Mark 8 #9239619 待售

TEL / TOKYO ELECTRON Mark 8
ID: 9239619
晶圆大小: 8"
优质的: 1996
Coater system, 8" 1996 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON MARK 8光抗蚀剂设备是一种综合性工具,旨在为半导体器件制造提供广泛的功能优势。该系统是一种先进的用于高速和高分子芯片生产的光刻胶(PR)处理解决方桉。由世界领先的半导体设备供应商TEL制造的TEL MARK8是一种全自动光刻设备,设计用于193 nm和深紫外线曝光源。该机由一系列装有一系列集成光化学元件的加工室组成。这些组件形成了一个全面的PR工具,能够调节各种PR类型的清洁、涂层和曝光过程,让用户优化过程的重复性,减少周期时间,提高光刻胶产量。部署在TOKYO ELECTRON MARK-8平台上的先进涂层解决方桉能够处理所有现有的PR过程,包括热材料和纳米材料。该工具旨在满足高级研发和商业生产的需求,在14 nm或更低的特征大小下提供公关性能,同时提供快速的非反射和短周期时间。TOKYO ELECTRON MARK 8资产可以容纳广泛的PR特性,例如厚度范围、折射率刷新率、溶剂的最大量和最小量,以及附着力。模型软件能够主动管理、调整和跟踪每个设备优化过程所需的PR输入。此外,该设备还提供了智能温度控制算法、感光层的多层超薄膜控制以及卓越的污染管理,从而延长了光刻胶的使用寿命。Mark 8还配备了健壮的计量系统,允许在过程中控制涂层均匀性,以及高速光化学过程所需的其他参数。该设备提供多个接入端口,允许广域曝光和优化PR过程。它还为基板对准和光刻压痕提供了可靠的精度。这允许用户实现比以前更高的图像分辨率和对比度。综上所述,MARK-8 PR机是一种先进、全面、用户友好的工具,旨在满足半导体行业日益增长的需求。凭借其集成的光化学组件、卓越的温度控制算法和稳健的计量系统,用户可以放心,该资产能够提供可靠且可重复的公关处理解决方桉。
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