二手 TEL / TOKYO ELECTRON Mark 8 #9280945 待售

TEL/TOKYO ELECTRON MARK 8是光刻工艺中使用的光刻设备。该装置的设计目的是将一种光敏树脂，称为光敏树脂，施加到一种基板上，如用于制造半导体电路的硅片。TEL MARK8光致抗蚀剂系统利用计算机控制的精密自动化单元，在晶片上应用均匀的光致抗蚀剂薄膜层。该机配备了高精度步进电机，精确定位基板的圆周运动。精确的运动可以防止光致抗蚀剂重迭,并确保整个基板的厚度一致。光致抗蚀剂用喷头喷涂.步进电机的压力通过喷嘴推动低压体积的光致抗蚀剂，形成均匀分布在基板上的液滴。一个集成的自动清洗工具减少了喷嘴上的光刻胶在两次使用之间的堆积，防止了污染。沉积的光致抗蚀剂层暴露于经过专门设计以创建所需半导体电路的紫外线掩模中。曝光导致化学反应在曝光的光致抗蚀剂中发生，改变了原层中的溶解度水平。然后将该层通过曝光后烘烤（PEB）。随着这一步的热量，剩余的具有高溶解度的曝光光刻胶溶解在特殊的显影剂溶液中，留下了未曝光光刻胶形成的硬化图样。TOKYO ELECTRON MARK-8能够产生极其精确的结果，并且能够创造出尺寸小至50纳米的错综复杂的特征，使其适合用于设备制造。自动清洁资产减少了操作员的维护,从而使产品更加一致。MARK-8光敏模型是制造半导体器件的宝贵工具。