二手 TEL / TOKYO ELECTRON MARK II #293748580 待售

TEL/TOKYO ELECTRON MARK II Photoresist Equipment是提供最先进的光刻性能的最先进的系统。光刻是半导体和其他电子设备制造过程中使用的一种工具，用于在基板中创建特征和图样。TEL MARK II光刻装置设计用于超小型、高精度的光刻应用。强大而紧凑的机器提供快速、精确的光刻涂层和成像能力。该工具配备了高精度液体分配器、可编程机器人手臂和成像资产，可以精确控制曝光和间隔参数。该模型的高精度液体分配器被设计成沉积在基板上的光刻胶的均匀层。机器人手臂然后精确定位材料以便暴露于光，成像设备提供对曝光强度、持续时间和入射角的精确控制。该系统具有三级曝光单元，由光源、皮带机和照相面罩组成。光源由多种氙弧灯、UV激光二极管和DXR光源组成，提供了一系列的曝光强度和脉冲长度。皮带工具配备了各种功能，如X-Y平移级、具有一定延伸范围的聚焦变焦显微镜、步进电机驱动聚焦和变焦控制。照片掩码用于将图像图样精确传输到基板上。资产还包括集成的液体分配机器人、化学加工机器人和实时监视器。液体分配机器人在基板上放置均匀、多孔的光刻胶涂层，化学加工机器人控制应用、烘烤、化学加工和后烘烤，用于制备用于曝光的基板。实时监视器协助操作员监测注射和固化过程，将基板暴露于光源，控制曝光后烘烤参数。此外，该车型还配备了一系列计量功能，以确保全线准确性和均匀性。这些功能包括微米自动对准、焦点深度观测以及光刻期间的光测量。总体而言,TOKYO ELECTRON MARK II Photoresist Equipment提供了无与伦比的精确度、精确度和可重复性,可在基板上创建特征和图桉。凭借其创新的特性和功能,该系统可用于创建几乎可以想象的任何特征大小和复杂性。