二手 TEL / TOKYO ELECTRON MARK II #9144969 待售

TEL/TOKYO ELECTRON MARK II是为了开发和处理半导体而设计的光阻设备。该系统是一个全面的解决方桉，允许使用抑制来创建平版印刷过程。它利用纳米级模式发生器和集成线性伺服执行器，提供高精度、可重复打印和对准任务。TEL MARK II确保了制造半导体器件时的最佳效率和准确性。该设备的主要工艺是制图、曝光后烘烤（PEB）和剥离。在图桉化过程中,将抗蚀剂分配到基板上并暴露在光线下。抗蚀剂可以软化和改变其纹理,从而使面膜和基板正确对齐。之后，利用PEB循环来硬化抗蚀剂，提高所产生的图桉精度。最后将抗蚀剂从基板上剥离，图样凝固。为了创建完整、准确的设计,对设备的每一层重复整个过程。机器包含各种组件，如机器人、控制器和装卸站。它还具有用于高效烘烤和暴露抗蚀剂的腔室和真空工具，以及用于精确放置口罩的口罩对准资产。TOKYO ELECTRON MARK II也支持广泛的底物，从1-D到3-D结构，包括Si、GaAs、ZnSe等等。除了其无与伦比的准确性和可重复性外,MARK II还提供了非凡的灵活性。它具有内置晶圆内部连接模型，使得能够轻松连接和断开基板与设备的连接。这允许用户更轻松、更快速、更准确地重印模式。总的来说，TEL/TOKYO ELECTRON MARK II是一个非常强大和可靠的光刻系统。通过使用纳米精度和集成线性伺服执行器，该单元为制造半导体提供了卓越的光刻工艺。此外，灵活的设计和对大量基板的支持使我们能够创建各种设备。TEL MARK II是开发和加工半导体的绝佳选择。