二手 TEL / TOKYO ELECTRON MARK II #9226207 待售

TEL / TOKYO ELECTRON MARK II
ID: 9226207
晶圆大小: 6"
优质的: 1989
Developer, 6" 1989 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON MARK II是为开发先进的电子电路元件而设计的光刻设备。该系统利用特殊激光束对介电和金属薄层进行制图和蚀刻的新工艺。利用这种激光束,一层薄薄的光致抗蚀剂被图桉化到一个基板上,比如硅片。这种光致抗蚀剂起到屏蔽作用,保护底层电路组件免受有害蚀刻和加工液体的侵蚀,而激光图样则允许蚀刻过程定位在某些位置。该光敏装置具有高精度、高速的图样检测和精细的图样形成能力,适用于半导体制造、印刷电路板(PCB)制造、MEMS(微机电系统)器件制造等应用。此外,TEL MARK II有一个批处理模式功能,允许在一个过程中对多个基板进行图样化,以及一个可以轻易改变外来芯片的图样大小的全场图样功能。TOKYO ELECTRON MARK II具有改进、高精度和高速对准的机器,可以准确、快速地检测图样区域基板的方向和尺寸。该工具还具有自动对焦和显微镜集成资产,可以进行更精确的模式检查。此外,该型号还提供了一个集成的镜头自动填充设备,可以用给定的材料快速填充任何区域。这就把猜测排除在沉积过程之外,因为填充所需的材料可以提前编程。特殊的MARK II镜面移位系统使激光束能够精确进入所需区域。最后,TEL/TOKYO ELECTRON MARK II单元非常适合原型设计,因为它采用了自动晶圆传输和高效的自监控功能。这使制造商能够快速设计和改进电路组件,而无需手动将材料从一个工艺转移到另一个工艺。此机器还提供了改进的边缘间隙和公差,进一步改进了原型设计功能。总体而言,TEL MARK II工具是一种先进的光刻资产,可提供高精度和高速的图样检查、精细的图样形成以及集成的自动填充和镜像移位系统。该型号适用于广泛的应用,如半导体和印刷电路板制造,以及原型制作。
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