二手 TEL / TOKYO ELECTRON MARK II #9238268 待售

TEL/TOKYO ELECTRON MARK II光致抗蚀剂设备是一种高度先进的基于抗蚀剂处理的图像成形系统,它使用户能够在各种电子基板和组件上精确显示高精度图像。特别是该单元适合用于生产先进的半导体和微电子器件和元件。光刻机是一个集成平台，结合了专用的加工元件，包括光刻预曝光处理单元、深层挖沟工具，以及先进的抵抗剖面化和自动分配功能。该资产旨在以超高速和极高的精确度处理薄膜基板，如半导体。此外，该模型还能够支持广泛的光刻技术，包括阶梯覆盖（或"步进重复"）光刻，其中极其精确的图样层被蚀刻到基板上。光刻设备配备了先进的光学成像系统，使用户能够使用紫外线激光器精确成型图像。该单元还能够执行各种高精度的抗预处理工艺，包括自旋涂层、喷涂涂层和预定义的图样开发。此外,该机器还可用于执行深硅沟槽过程,从而使用户能够创建具有精确间隔控制的超浅沟槽。TEL MARK II光刻胶工具提供了一种统计流程监控资产，用户可以通过该资产安全地分析流程参数并创建具有可重复和可靠结果的高精度图像。此外，该模型还具有较低的波长比轮廓，可确保打印过程中的总光传输。TOKYO ELECTRON MARK II光致抗蚀剂设备结合了高度先进的光学和加工元件，使用户能够在薄膜基板上精确形成精细分辨率的图样。该系统是高度可靠和准确的，具有广泛的光刻和抵抗预处理过程，结合高精度成像单元，确保可重复和可靠的结果。此外，它的低波长比轮廓确保了打印过程中的总光传输。