二手 TEL / TOKYO ELECTRON MARK II #9269120 待售

TEL/TOKYO ELECTRON MARK II是一种精密的光致抗蚀剂设备，能够在用于制造半导体器件的基板中精确形成图样。光刻胶系统是半导体制造集成生产线的一部分，包括薄膜的形成和蚀刻工艺。TEL MARK II由光刻胶处理模组、控制模组、薄膜形成模组组成。光致抗蚀剂加工模块包括湿式板凳、浸入式和自旋涂层工艺。湿式台阶工艺涉及使用微型移液器应用湿式光刻胶。浸入过程使用由罐体、晶圆升降机和监视器组成的浸入单元，允许自动化处理。自旋涂层工艺将光致抗蚀剂应用于晶片表面，用于创建均匀的光致抗蚀剂层。TOKYO ELECTRON MARK II控制模块由用户界面、自动化软件和控制器组成。它允许选择光刻胶类型、自旋速度、曝光剂量、开发时间等工艺参数。它还允许用户为重复的光刻胶应用编程生产周期。光刻机的成膜模组由两个核心元件组成，一个膜调制器和一个控制器。它可以生产任何尺寸的薄膜和蚀刻图桉。薄膜调制器允许将光致抗蚀剂精确地输送到基板上，并形成一个均匀的层。然后控制器允许精确控制蚀刻过程，并负责膜形成过程的整体自动化。最后,MARK II光致抗蚀剂工具是半导体制造工艺的重要组成部分.它能够生产精确尺寸和均匀层的薄膜和蚀刻图样，确保快速高效的生产。