二手 TEL / TOKYO ELECTRON MARK II #9269135 待售

TEL/TOKYO ELECTRON MARK II是一种用于半导体生产中性能图样化的光刻设备。该系统的目的是利用先进的电子投影对准技术，为掩模光刻制造高质量的半导体光掩模。该单元采用八轴掩模对准机构，具有10英寸大的线性级、高分辨率投影对准和高精度激光干涉测量。这种先进的对齐技术可以提高掩码保真度和重复阵列处理的稳定性。该机利用集成的检测器单元和先进的图像分析功能，精确检测和识别即使低对比度和小线宽的模式。这样可以有效地修改复杂的阵列,并确保高精度的阵列和检查。TEL MARK II利用高分辨率光学成像工具，具有1.4至5.5µm的聚焦深度，将光精确投射到掩模晶片上。这允许在掩模晶片和掩模代理之间精确对齐。此外，该资产还配备了一个摄像头，可捕获多达6400万像素的图像。该模型还包含了衍射、弹性散射、光致发光、二次离子质谱和飞行时间质谱等自动测量仪器阵列。这有助于确保数据分析的准确性和效率。最后,设备的现代用户友好型设计为软件操作提供了直观、安全的环境。这包括图形用户界面，以及编程语言集成。此外,系统还包括各种软件工具和库,可帮助用户简化操作并消除停机时间。总而言之，TOKYO ELECTRON MARK II单元的先进特性使其成为光刻在半导体制造中应用的理想工具。它提供可靠、高性能的阵列,可帮助提高操作效率,同时确保一流的数据分析。