二手 TEL / TOKYO ELECTRON Mark IV #293669153 待售

TEL/TOKYO ELECTRON MARK IV光刻设备是一种综合性的解决方桉，旨在实现先进的光刻工艺，如深紫外线（DUV）、接触光刻和光学接近校正（OPC）。该系统能够用晶圆制造复杂的高分辨率集成电路。TEL Mark IV集成了多种工艺工具，如多波长投影曝光工具、垂直轨迹、光刻胶轨迹和自动抗蚀剂处理单元，形成单一平台。多波长投影曝光工具可以在光刻胶中出现的晶片上绘制复杂的图样，如器件布线和形状。该机采用激光照明和电子束照明相结合的方式，提供了像0.3DUV一样薄的线宽绘制能力。垂直轨道负责过程控制，在晶片暴露于投影工具时管理其定位和定向。高级算法，如OPC，被用来优化模式，以达到所需的线宽，并在晶圆上打印均匀的图像。光刻胶磁道控制光刻胶的发展和纺丝，以适当的发展和蚀刻晶片。自动抗蚀剂处理系统对晶片在加工的每一个阶段的处理和储存提供精确的控制--从晶片的装卸到必要的抗蚀剂的分配，以确保制造过程中的统一开发。TOKYO ELECTRON MARK IV为光刻工艺提供了一个全面的解决方桉，使IC设计者能够在保持高分辨率和准确性的同时利用先进技术。该资产可用于制造晶体管、内存芯片、逻辑芯片、基于单元的逻辑芯片和各种其他类型的IC。其适应不同工艺流程的能力和紧凑的设计使其成为大批量制造商的理想选择。该模型以TEL和TOKYO ELECTRON多年的业界领先经验为后盾，旨在提供一致的结果和最大的制造效率。