二手 TEL / TOKYO ELECTRON Mark V #293793330 待售
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ID: 293793330
优质的: 1993
(1) Coater / (2) Developer system.
EMO Function
DEV Spin chuck
Coat spin chuck
IND Unit
ARM Carrier station
BU Unit
(3) Pins col
I/F Unit
Cooling plate temperature: 23 ± 0.2°C
Refrigerator
Utility check:
N2: 4.5 kgf/cm²
VAC: -73.3 kPa
CDA: 3.5 kgf/cm²
DIW: 1.0 kgf/cm²
Chill water: 3.0 kgf/cm²
AD Inner chamber pressure: ≤ 347 kPa
Power supply: 100/200 V ± 10%
1993 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON MARK V是用于高分辨率半导体光掩模制造的先进光刻设备。光致抗蚀剂系统用于将图样传输到晶片上,用于集成电路（IC）制造。TEL Mark V是一个可靠、高性能的系统,能够为市场上最具挑战性的设备提供精确的性能。TOKYO ELECTRON MARK-V构建时具有1.2 nm的高光束质量,并具有超高可读性（SHR）监视器单元,可确保整个光盘图样区域的过程精度。它拥有可定制的15英寸液晶触摸屏显示屏,可保持卓越的图像分辨率。机器通过一套全面的软件和自动化过程来控制层厚度和各向同性蚀刻速率。其中包括等离子体源互锁工具和在线监控资产，这有利于安全和生产力。TEL MARK-V还通过具有等离子体模拟蚀刻速率控制的智能PVT（光刻温度）消除酸蚀速率的不均匀性。该模型将晶圆温度调整为温度和湿度的变化，同时也在蚀刻过程中控制等离子体能级。智能PVT以比传统系统产生更少的图样边缘粗糙度而着称，允许更高的图样保真度。在节省时间和成本方面，TEL/TOKYO ELECTRON MARK-V配备了超速步进重复（SSSR）扫描仪和集成的Resister Coater-Developer。这两种自动化机制分别减少了工作的时间和成本，如胶片处理和掩模对齐。此外,该设备还配备了高度可靠的光掩码卸除器,有助于最大限度地减少体力劳动,从而减轻频繁硬件维护的压力。总之，MARK-V是一种用于高端IC制造的先进光刻胶系统。该单元具有保证精度的特点，如高光束质量、智能PVT、SSSR和集成的抵抗涂层-显影器功能。通过这些功能,用户可以受益于更高的机器准确性和成本节约。
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