二手 TEL / TOKYO ELECTRON Mark V #9130725 待售

ID: 9130725
晶圆大小: 6"
优质的: 1993
System, 6" Left to Right INDEXER 4 Cassette Stage (Uni-Cassette) CONFIGURATION Main Body1 / Main Body2 / Chemical Cabinet MAIN CONTROLLER NEC FC-9801X C/S ROBOT TYPE Vacuum Arm / Ceramic Pincette MAIN ROBOT TYPE 2 Pincette Arm INDEXER Laser Diode Mapping Sensor SCR JET Nozzle / Rinse Nozzle COAT 4 Resist Nozzle / Bellows Pump 1 Gallon Resist Bottle / Thinner Local Supply (Canister) EBR Nozzle / Back Rinse Nozzle Local Drain (1ST SUS 10L Tank / Drain Pump) DEV Nozzle Tyoe : Spray Nozzle Rinse Nozzle / Back Rinse Nozzle Facility Supply / Drain WEE TEL Standard CTV-410 AD TEL Standard Local Supply (Canister) 1993 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON MARK V是TEL(TOKYO ELECTRON LIMITED)为半导体工业所创造的高度先进的光阻设备。光刻胶系统结合了专有技术,由几个核心组件组成,构成TEL Mark V单元。TOKYO ELECTRON MARK-V机的核心部件是光致抗蚀剂单元,或称为PRU。它是一种最先进的高精度工具,利用精密的光学图样,将光敏材料精确地应用于半导体基板上。光敏装置采用专利技术,能够精确调整其螺距、尺寸和形状,并应用各种精密涂层。该机组还能在多种温度、压力、环境条件下工作,保持均匀稳定的涂层。这种能力可以为所有类型的光刻胶材料提供高质量的效果。MARK-V资产还具有许多其他组件,例如用于转移口罩和晶片的精密高速机器人,用于处理基板的高速送膜器,以及用于将基板对齐和切割成单独碎片的拆分后模型。设备还包括用于精确读取条形码和图桉标记的激光扫描仪,以及用于确保胶片配准和掩蔽精度的光学检查系统。这些元件使Mark V单元能够提供专业生产半导体产品所需的高精度、重复性和精确度。此外,这台机器还可以提高产量,在许多不同的基材尺寸上实现最小污染和均匀涂层质量。TEL/TOKYO ELECTRON光致抗蚀剂工具还能够通过减少生产过程中产生的有害化学废物的数量,提供更好的环境性能。TEL/TOKYO ELECTRON MARK-V资产也因其高效率的光学模型而降低了功耗,从而提高了能效。此外,设备还通过提高基板吞吐量、最大限度地减少排斥、降低缺陷相关的损害成本,帮助降低半导体生产的总成本。TOKYO ELECTRON MARK V光刻胶系统作为当今最先进的光刻胶系统之一,是寻求产生高品质、一致光刻胶结果的半导体专业人士的理想解决方桉。它结合了精密、精密的元件和高效的解决方桉,对那些寻求优化半导体生产的人来说是一个极好的投资。
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