二手 TEL / TOKYO ELECTRON Mark V #9130774 待售
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ID: 9130774
晶圆大小: 6"
优质的: 1990
System, 6"
Left to Right
INDEXER 4 Cassette Stage (Uni-Cassette)
CONFIGURATION Main Body1 / Main Body2 / Chemical Cabinet
MAIN CONTROLLER NEC FC-9801X
C/S ROBOT TYPE Vacuum Arm / Ceramic Pincette
MAIN ROBOT TYPE 2 Pincette Arm
INDEXER Laser Diode Mapping Sensor
SCR JET Nozzle / Rinse Nozzle
COAT 4 Resist Nozzle / Bellows Pump
1 Gallon Resist Bottle / Thinner Local Supply (Canister)
EBR Nozzle / Back Rinse Nozzle
Local Drain (1ST SUS 10L Tank / Drain Pump)
DEV Nozzle Tyoe : Spray Nozzle
Rinse Nozzle / Back Rinse Nozzle
Facility Supply / Drain
WEE TEL Standard
CTV-410
AD TEL Standard
Local Supply (Canister)
1990 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON MARK V Photoresist设备是一种先进的光刻解决方桉,旨在快速高效地在大面积上提供精确的微观结构。该系统结合了激光光束直接光刻（LBDL）和常规光刻技术，以及在纳米级成功形成图样的先进图样技术。TEL Mark V单元能够创建传统光刻工艺难以开发的三维结构。TOKYO ELECTRON MARK-V机利用KRS-U1100DL，激光产生装置，最大写入速度5m/s，最大重复精度3nm。此设备向阵列形成设备提供激光束,然后将阵列信息存储在其内部内存中,并将阵列信息重放到基板上。施加在基板上的激光束被显微镜工具聚焦成各种微结构。此外，一个内置的图书馆能够开发各种微型机和结构，包括光致抗蚀剂、覆盖彩色图桉和阵列、晶圆圆周识别和通过进出接触。利用KRS-U1100DL，TOKYO ELECTRON MARK V资产具有50nm的最小场特征大小，并通过在抗蚀剂涂层基板上施加高频、短曝光时间激光来操作。这种激光具有比其他光刻系统更深层次的蚀刻材料的能力，使得三维结构的发展远远超出了传统光刻机器的能力。该模型还具有先进的抗蚀剂加工设备，它允许在整个基板上形成一个极其均匀和薄的抗蚀剂膜。这确保了精确和可重复的模式形成，并提供了一个高质量的精加工每一个微观结构。总体而言，TEL开发的TEL MARK-V光刻胶是一种可靠而全面的光刻解决方桉。它具有创新的模式形成技术，能够成功地生产出纳米级的三维结构，并具有集成的抗蚀剂处理系统，以达到高质量的效果。该单元非常适合那些需要在其基板上形成精确图样以广泛应用的人。
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