二手 TEL / TOKYO ELECTRON Mark V #9222912 待售
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已售出
ID: 9222912
优质的: 1999
Systems
Utility:
Drive pressure:
Unit drive pressure: 3.5 kgf / cm² (343.2 kpa)
Ejector drive pressure: 3.5 kgf / cm² (343.2 kpa)
Resist pump drive pressure: 3.5 kgf / cm² (343.2 kpa)
Vacuum pressure:
Spinner: -550 mm Hg (-73.3 kpa)
WEE: -400 mm Hg (-53.3 kpa)
C/S, I/F(V,Vz): -400 mm Hg (-53.3 kpa)
N2 Pressure:
N2 Primary pressure: 3.5 kgf / cm² (343.2 kpa)
Developer solution canister tank pressure: 1.0 kgf/ cm² (98 kpa)
HMDS Supply tank pressure: 0.5 kgf / cm² (49 kpa)
Thinner supply tank pressure: 0.5 kgf / cm² (49 kpa)
Resist bottle pressure: 0.3 kgf / cm² (29.4 kpa)
Adhesion unit bubbler tank pressure: 0.3 kgf / cm² (29.4 kpa)
E2 Nozzle blow pressure: 0.3 kgf / cm² (29.4 kpa)
DI Water and developer solution:
Primary pressure: 1.0 kgf / cm² (98 kpa)
Secondary pressure: 1.0 kgf / cm² (98 kpa)
Chilly water:
Primary pressure: 1.5 kgf / cm² (147.1 kpa)
Exhaust pressure:
Coater cup: 5 mm H2O (0.05 Pa)
Developer cup: 10 mm H2O (0.1 Pa)
Scrubber cup: 10 mm H2O (0.1 Pa)
WEE Lamp house: 11∼13 mm H2O (0.11∼0.13Pa)
Temperature: 20~27° C Variance to be less than 0.5° C
Humidity: 28~55% RH Variance to be less than 3% RH
Power supply: 100/200 V, 50/60 Hz, Single phase, ±10%
1999 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON MARK V是一种光阻设备。它是一种用于在基板（通常是硅片）上蚀刻图样的装置，用于半导体制造。它的工作原理是将光敏膜（光致抗蚀剂）暴露在光线下。然后对暴露区域进行开发和化学处理。结果是蚀刻在基板上的图样。TEL Mark V是在精确的考虑下构建的。它具有先进的四轴平移阶段，允许对基板进行精确的位置控制。具有4X至10X可调放大倍率的高分辨率光学系统，可实现精确的图样分辨率和对准。光学单元可以配备各种照明光源，包括高能效LED光源，以及NIR和紫外线光源。它还配备了"自动扫描"功能,以减少曝光时间并消除由于未对齐而导致阵列错误的可能性。TOKYO ELECTRON MARK-V是一种易用、可靠的机器。它具有直观的用户界面和一系列功能,可方便新手和经验丰富的用户使用。它可以装载一系列的光致抗蚀剂材料，允许广泛的模式的可能性。它还具有"智能最近邻居"选项,允许对同一光刻胶层进行多次曝光,每次曝光都针对特定基板进行优化。此功能可提高阵列分辨率并提高产量。MARK-V还内置了触摸屏显示器，为用户提供有关该工具操作的信息。这包括有关进程参数以及警告和警报的信息。这确保了用户可以实时监控流程，并相应调整参数。TOKYO ELECTRON MARK V是一种先进、易用的光刻胶资产，以高通量提供精确的图样。它非常适合用于半导体制造，可靠且用户友好，可以供经验丰富的用户和新手用户使用。
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