二手 TEL / TOKYO ELECTRON Mark V #9226212 待售

TEL/TOKYO ELECTRON MARK V Photoresist Equipment是一个集成的半自动系统，可用于光刻工艺。其设计目的是在晶片上精确地分配和精确地暴露光刻胶，以产生高分辨率的图样，用于大规模制造微电子器件。该单元由几个关键组件组成：主控制台、探测器头组件、曝光单元和晶圆对齐机（WAS）。主控制台是工具的核心部分,它既提供用于控制资产的接口,也提供用于显示操作的状态和结果的接口。主控制台还装有流体输送模型，用于在光刻过程中将光刻胶和其他液体精确地分配到设备中。检测器头组件是将晶片移向和移离曝光单元以及确保晶片与曝光单元的光学器件正确对齐的机构。曝光单元负责使用可编程激光器将图样投射到晶片上，而WAS是探测器检测光刻胶、激光器和晶片本身之间错位的机制，允许应用校正。该系统还采用了一个反馈单元，该单元与WAS一起，有助于确保以最高精度完成暴露和分配操作。反馈机由几个探测器组成，这些探测器放置在光刻胶输送喷嘴、激光和晶片附近。这些探测器测量了光刻胶的电阻率，也检测了实际的曝光时间和激光电流。这种反馈有助于保证光刻工艺的准确性和质量。此外,TEL Mark V还利用多种安全功能,例如紧急停止工具、互锁安全系统和基于摄像头的存在检测资产,以确保晶圆在曝光过程开始之前处于适当位置。总而言之，TOKYO ELECTRON MARK-V Photoresist Model是在晶片上以高精度产生精确图桉的有力工具。该装置具有精确的分配设备、可编程激光、反馈系统和安全特性，能够为大规模制造微电子器件提供可靠一致的结果。