二手 TEL / TOKYO ELECTRON Mark V #9226369 待售

TEL/TOKYO ELECTRON MARK V Photoresist Equipment是一个最先进的集成平台,旨在方便大批量生产用于设备制造的光敏材料。它是TEL专有的串联基板加工技术和用于大批量生产的先进光学捕获技术的结合。该系统以其精湛的均匀性和出色的轮廓控制而着称。TEL Mark V Photoresist Unit结合了TOKYO ELECTRON先进的基于真空的掩模辐射技术，以确保掩模和光阻胶之间的高对准精度。利用改进的曝光操作,可以在光刻胶和遮罩图桉之间实现高度精确的对准。TOKYO ELECTRON MARK-V Photoresist Machine能够以0.25微米的分辨率曝光，曝光时间低至8毫秒，实现精细的螺距装置制造。该系统还采用了线性电动机嵌入式光学控制工具。该资产利用低失真执行器来保持掩模、晶圆和投影光学器件之间的精确对准。这样可以确保将图样从蒙版精确传输到光刻胶。此外,TEL MARK-V Photoresist Model还包括一个全自动对准和曝光设备,允许快速、简单的维护和设置。该系统提供了较高的交叉跟踪一致性级别,从而实现了高度可重复和一致的结果。此外,该单元还采用动态模式调整（DPT）和动态焦点控制（DFC）技术,以确保每次曝光时的最高分辨率质量。TOKYO ELECTRON MARK V Photoresist Machine还能实现低温活化和湿式清洁光刻胶，以及对产生的图样造成损害的最低风险。此工具的开发可降低污染程度、提高吞吐量、提高产品的统一性和提高用户满意度。总体而言,MARK-V光刻资产的设计目的是提供无与伦比的性能水平,以便一致、精确地制造精细的螺距设备。是大批量生产敏感材料的完美解决方桉。此外，该模型还可以方便地进行维护和设置，以及改进设备制造过程的安全性和控制性。