二手 TEL / TOKYO ELECTRON Mark V #9384735 待售

TEL/TOKYO ELECTRON MARK V Photoresist Equipment是一款先进的自旋光刻系统,其特点是增强半导体工业的光刻涂层工艺。它采用双级涂料实现晶片表面光敏材料的均匀沉积。该单元可以处理不同的抗蚀剂材料，包括薄膜抗蚀剂如Silsesquioxane氢（HSQ）和苯甲醇基抗蚀剂（BAR）以及高达16,000 rpm的3000 rpm的自旋速度。该机器还提供了几种改进过程控制的选项。它配备了电子电平监视器，以确保晶片表面时刻均匀的抗蚀涂层。它还具有一个晶圆倾斜机构，用于控制晶圆边缘的抗蚀性厚度。这种倾斜机制允许对晶片上抗蚀剂的边缘排除进行精确控制。TEL Mark V Photoresist Tool为精确晶片处理提供了若干附加功能。它具有内置的边缘取珠喷嘴，能够去除边缘取珠，从而提高最终光掩模中光刻胶的质量。另外，它的分离式喷嘴设计用于均匀分散光刻胶喷雾在晶圆周围。此外，TOKYO ELECTRON MARK-V Photoresist Asset的特色是开发后的洗涤，在喷雾室内採用高压喷涂的特性。这样可以确保从模型中获得的光致抗蚀剂是干净的并且没有任何污染物。开发后清洁还包括一个分拆喷嘴，以确保所有剩余液体被完全清除。总体而言,Mark V Photoresist Equipment的功能通过提供卓越的均匀性和改进的工艺控制,帮助显着降低与光刻胶薄膜沉积相关的成本。该系统还支持多种抗蚀剂材料，并提供出色的光学和物理清晰度的成品光掩模。这样可以确保所得到的平版印刷图样质量和精度都很高。