二手 TEL / TOKYO ELECTRON Mark V #9384736 待售

TEL/TOKYO ELECTRON MARK V光阻设备是用于制造超高密度集成电路芯片的先进技术。它能够在薄膜上沉积和蚀刻抗蚀层。光刻胶系统专为前缘晶片和微处理器而设计。它是一种高性能机器，结合了精密的光学单元和先进的过程控制机器。TEL Mark V由几个组件组成，包括亚微米对准器、光刻胶分配模块、化学预剥离模块、等离子体剥离器模块和抗蚀剂剥离模块。该对齐器用于将晶片与光刻胶分配单元精确对齐，而光刻胶分配模块用于将光刻胶光敏材料分配到晶片上。化学预剥离模块用于晶片的初步制备，为抗蚀剂摄影做准备。等离子体剥离器模块可根据需要对某些层进行等离子体蚀刻。最后,抗蚀剂条带模块能够在开发后去除抗蚀剂层.TOKYO ELECTRON MARK-V的亚微米对准器使得晶圆上的特征与具有亚微米精度的成像工具对准。该工具配备了多种对齐方式，包括扫描对齐、平滑对齐、焦点对齐。MARK-V的光刻胶分配模块由一个自动端点监控器组成，用于跟踪沉积过程中的光刻胶曝光状态。它还包含一个热导体分配传感器，用于光刻胶的精确定位。TEL/TOKYO ELECTRON MARK-V先进的工艺控制资产由温度控制器组成，用于监测晶圆和光刻材料的温度，以精确控制图像质量。该模型还具有自动基板分析工具，能够快速确定关键晶片特性。Mark V光致抗蚀剂设备提供超高密度电路芯片的极其精确和高性能的制造。它能够快速、准确地对准和沉积光敏材料，使复杂设备的生产达到尽可能高的标准。先进的工艺控制系统允许仔细的温度监测和基板分析，进一步提高了结果的准确性。