二手 TEL / TOKYO ELECTRON Mark V8 #293643489 待售

TEL/TOKYO ELECTRON MARK V8是为了先进的製造过程而设计的光刻胶设备。它使用户能够将光刻胶直接沉积到晶片或基板上，从而确保均匀、高性能的涂层。这种均匀性增加了光致抗蚀剂在加工过程中的覆盖率，提高了产量。光刻胶系统利用TEL专有技术，产生超低调制、均匀的光刻胶涂层。TEL Mark V8机型以TOKYO ELECTRON-precise蚀刻型材为特色，允许精确控制底切深度。此蚀刻轮廓技术非常适合需要超光滑曲面的应用,包括MEMS和ULSI技术。该单元能有效控制沉积在晶圆或基板上的光刻胶涂层厚度。这种特性对于需要均匀、薄的光刻涂层的高长宽比光刻工艺特别有用。使用独特的原位测量机测量光刻胶厚度，确保沉积的光刻胶在整个晶片上一致。TOKYO ELECTRON MARK V8工具具有多种功能,可提高光刻工艺的效率。它专为高吞吐量和多功能性而设计,具有多种用于本垒板和晶圆尺寸的选项,从而在光刻应用中具有最大的灵活性。此外，资产支持广泛的光刻胶类型，使用户能够为自己的应用选择最合适的抗蚀剂。Mark V8模型通过优化的配方设计提供过程控制,允许用户开发适合其特定需求的配方集。它还包括一系列内置的过程控制工具，如现场测量和实时过程监控，使设备成为任何希望优化其光刻工艺的人的理想选择。此外，系统还有一个存储光刻配方库，允许用户快速方便地产生一致的结果。总体而言，TEL/TOKYO ELECTRON MARK V8是一种先进的光刻装置，提供卓越的性能和过程控制。该机由于具有超低调制、均匀的涂层以及与多种光刻材料的兼容性，非常适合高精度光刻应用。它还具有内置的过程控制工具，如现场测量和实时过程监控，这意味着用户可以优化配方并实现可重复的结果。