二手 TEL / TOKYO ELECTRON Mark V8 #293643504 待售

TEL/TOKYO ELECTRON MARK V8 Photoresist Equipment是一款功能强大的数位图桉化工具，使公司能够以高度的精确度和精确度製造光掩模。用于半导体器件、显示器等微电子产品的创建。在其核心，TEL Mark V8是一个输送机型系统，利用先进的步进电机技术，精确地放置特征到一个光掩模空白。该装置设计用于加工尺寸达到600mm的基板，并以0.5至3µm的最小图桉尺寸运行，位置精度为0.3µm。TOKYO ELECTRON MARK V8利用光掩码，这一过程用于有选择地光学去除基板材料（例如硅）的部分，然后根据设备制造的需要将图样化的基板转移到光掩码上。该机采用先进的掩蔽技术，如：-I线照明：波长为365 nm，用于绘制小特征图样。-KrF Deep UV：波长为248 nm,可用于设计大型特征。-G线照明：波长为515 nm，用于中型特征的图桉。-宽带照明：具有360至420 nm的宽波长覆盖范围,用于各种特征尺寸的阵列。-激光直接成像：利用看不见的激光束在光掩模上直接创建图样，从而无需进行广播照明。为了确保质量和可重复性,Mark V8提供了一些改进掩蔽过程的高级功能。这些特性包括双光束对准、自动对准校正、边缘边缘模具移位校正、低光图像识别和高分辨率成像。此外,该机器能够同时执行多个处理步骤,包括胶片开发、掩蔽、蚀刻和成像。该机还具有支持多种处理方法的能力，以适应不同客户的需求。TEL/TOKYO ELECTRON Mark V8专为需要快速可靠生产高端光掩模的用户而设计。其准确性和可重复性使其适合半导体器件、显示器和其他复杂电子器件的制造商。该工具能够处理各种基板，其特点为公司提供了一种高效、高质量的制造复杂电子设备的方式。