二手 TEL / TOKYO ELECTRON Mark Vz 10000WC-N #9148318 待售

TEL/TOKYO ELECTRON Mark Vz 10000WC-N是一种光刻光敏应用的光刻设备。它使用先进的光刻工艺，其中光被用来将图样从光掩模转移到基板上。该系统可实现高质量的图像,并精确控制图桉位置和大小。该单元高度集成，为包括制图、清洁、蚀刻和检查在内的抗性应用提供了一个整体解决方桉。它由用作掩模光源的照明器、用于暴露掩模的电子束扫描仪和有助于将图样转移到基板上的离子束蚀刻器组成。照明器的温度控制为+/-1 °C,可确保均匀和一致的照明。电子束扫描仪能够精确扫描1至5微米范围，最大工作速率为500倍。它使用3级加速机，具有加速/减速、聚焦、消隐能力。离子束蚀刻器能够精确蚀刻分辨率为2纳米的样品。该工具还包括一些预处理和后处理系统,以满足特定的客户要求。它具有图像捕获功能,用于监视和分析过程、自动对齐校准、分析获取的数据、光学读取图样以及掩码检查。资产使用TEL ScrubRX溶液清洗基板和烘焙选择器，以容纳各种类型的抗蚀剂。此外,它还使用一系列特定于扫描仪的电子滤镜来控制图像的质量,例如调整图像参数的多过程滤镜（MPF）和用于分色的ChromaFilters。总体而言,TEL Mark Vz 10000WC-N是一种先进的集成光刻胶模型,使用户能够实现高质量的高分辨率图样,并精确控制图样位置和大小。适用于一系列应用，从测量表面粗糙度到最先进的半导体器件集成。