二手 TEL / TOKYO ELECTRON MARK Vz #149633 待售

TEL/TOKYO ELECTRON MARK Vz Photoresist Equipment是一种工业生产纳米级图桉的高端精密光刻系统。这种最先进的光刻装置允许在经常使用的波长（例如633 nm、365 nm和248 nm）上制作极其精细和详细的几何图桉，并提供高端化学加工和计量功能。TEL MARK-VZ光刻机提供多种操作模式，包括光学投影光刻（OPL）和电子束光刻（EBL）。在OPL中，光被投射到投影透镜上，透镜将精细的图桉放大到基板上--操作的终极目标。EBL是当极细结构需要极高精度时使用的过程。这种光刻方式利用高度聚焦的电子束在基板上书写精细的结构。TOKYO ELECTRON MARK V-Z Photoresist Tool也提供各种化学过程，如原涂层和开发。原涂层步骤有助于保护基板和创建一个均匀的表面，而显影有助于软化和溶解光刻胶层，露出下面的图样。此外，TOKYO ELECTRON MARK-VZ Photoresist Asset提供计量功能，以确保成品的最高品质。这些测量包括各种测量,例如线宽和高度、侧壁角度和迭加误差,这些测量对于保证精确和一致的阵列几何都很重要。TEL/TOKYO ELECTRONMARK-VZ光刻胶模型非常可靠,可优化任何光刻工艺的通量和精度。这种设备允许生产极其精细的结构，从而能够生产从3D结构到纳米电子设备的任何类型的可想像的模式。因此，对于希望制造最精细和最复杂结构的公司来说，这一系统是一个宝贵的工具。