二手 TEL / TOKYO ELECTRON MARK Vz #293587287 待售

TEL/TOKYO ELECTRON MARK Vz是一种最先进的纳米制造光阻设备，为制造超小型电阻和/或集成电路（IC）提供精确、高不透明度的抗拒成像解决方桉。凭借其卓越的速度和精度，它是半导体行业内制造感光器件最全面、最可靠的光刻系统之一。TEL MARK-VZ光阻系统配备了自动最佳曝光（AOE）单元,可提供精确、一致的抵抗曝光。AOE机集成了优化的曝光参数：曝光能量、剂量和创建可靠的抵抗模式所需的时间。TEL专有的温度控制夹具支持一致和低温抵抗应用,而基板高度控制（SHC）提供了卓越的抵抗均匀性,并能快速响应抵抗高度变化。通用的TOKYO ELECTRON MARK V-Z工具设计用于轻松处理任何类型的抗蚀剂和基材材料,包括正负光抗蚀剂。随着按钮的触摸，溶解和开发抗蚀剂图像的条件可以很容易地改变，从而能够适应每个特定项目的确切需求。MARK V-Z还配备了高分辨率的模式识别能力，在将图像从一个目标基板传输到另一个基板时允许快速、轻松的自动对准。此外，MARK-VZ光致抗蚀剂资产的设计能够接受额外的模块和组件，如附加的晶圆采样器，以及附加的基材或晶圆传输模型，这取决于特定应用程序的具体需求。TOKYO ELECTRON MARK Vz在单一功能强大的设备中提供灵活性、精确度和多功能性。它是为各种应用（从复杂的IC到光敏设备）设置功能和经济的纳米制造的理想投资。