二手 TEL / TOKYO ELECTRON MARK Vz #9118822 待售

TEL/TOKYO ELECTRON MARK Vz是为先进的多层亚微米器件制造而设计的先进光刻设备。它由一个光掩模对准器、一个微调器、一个干蚀刻器、一个湿显影剂和一个等离子体灰烬组成。该系统能够通过使用自动对准装置和高度可配置的多层抗拒工艺，以极精确的精度沉积多达四层多层的亚微米装置前体。TEL MARK-VZ掩模对准器能够在低至0.15 μ m的分辨率下掩蔽正负抗蚀剂，是亚微米器件制造的理想选择。微调器也非常精确，具有温度控制环境，允许微调控制光敏蒸发速率和厚度。在ALD/PEALD和DVD系统的辅助下，可以得到高度均匀、高品质的抗蚀膜。干蚀刻器也是机器的一个重要组成部分，允许在光致抗蚀剂制图之前将掺杂剂和其他成分精确地沉积在基板上。湿法显影剂利用湿法化学加工工具，保证了抗蚀剂的可靠开发，实现了均匀的抗提除。最后，等离子体蚀刻器通过消除传统干蚀刻可能出现的底蚀或过度蚀刻问题来确保微调蚀刻。TOKYO ELECTRON MARK V-Z提供先进的设备制造和可定制的阵列,以满足客户的特定要求。它是一种可靠和高度精确的光刻胶资产,专为要求最苛刻的应用程序而设计,具有自动化和高度可配置的抵抗工艺和对齐系统。该模型还提供了更快的执行时间和周期时间以及经济高效的处理,使客户能够使其设备可靠、快速且浪费更少。