二手 TEL / TOKYO ELECTRON MARK Vz #9148316 待售

TEL/TOKYO ELECTRON MARK Vz是为支持半导体制造业的各种工艺而开发的最先进的光刻设备。该系统旨在为各种生产步骤提供改进的工艺控制和改进的薄膜均匀性，同时支持传统的旋转涂层单元和新型自对准激光束平滑机。自旋涂层子工具包括一个集成的静电马达腔室、一个自旋涂层喷头和喷嘴，以及一个具有精确轮廓能力的闭环后端晶圆监控资产。该模型还包括晶圆自旋涂层前去除边缘珠的设备。该系统能够提供有关每个晶片在旋转涂层过程中的状态和均匀性的详细信息,从而改进了均匀性并更好地控制晶片步高。激光束平滑子单元使用一对自对准、超高功率的激光器在半导体晶片上平滑出表面地形。这允许去除非均匀性和其他超出指定范围的晶圆特性,而传统方法无法达到这些特性。机器还提供晶圆厚度的高速测量。TEL MARK-VZ能够以高达4微米/半循环的速度处理10英寸和12英寸晶片。它可以达到每小时200个缺口的最大采样速率，包括线缘粗糙度测量。此外，该工具与前沿设施兼容，如：干湿蚀刻室、快速热处理反应堆、高温炉等等。总之，TOKYO ELECTRON MARK V-Z是一种先进、可靠的光阻资产，旨在支持半导体制造业的各种工艺。它为旋转涂层和激光光束平滑过程提供了改进的过程控制和均匀性，并对晶圆厚度和线缘粗糙度等重要参数进行了实际控制。