二手 TEL / TOKYO ELECTRON MARK Vz #9205494 待售

TEL/TOKYO ELECTRON MARK Vz光刻设备是一种光刻解决方桉，能够大规模整合精确的微米尺度特征。该系统适用于先进的晶圆和器件制造设备，能够可靠地对大纵横比特征进行阵列设计，并具有良好的配准对准性能。TEL MARK-VZ单元的设计符合先进晶圆设计和制造的要求。该机擅长在硅片、硅层直接成像和复合材料上的应用，速度和精度都很高。在操作中，TOKYO ELECTRON MARK V-Z光致抗蚀剂工具由专用扫描级、扫描仪和光致抗蚀剂处理器组成。扫描阶段由两个立方垂直阶段组成，一个六足动物对齐阶段和一个多段阶段。舞台配置旨在优化扫描过程中的布局和定位精度，从而在PMOS和NMOS结构之间实现高效迭加。TEL MARK Vz光抗蚀剂资产配备了激光二极管源扫描仪，可以在一个笔触中对大型高清图像进行图样绘制。该扫描仪使用高功率激光束在图样化的基板上精确绘制大长宽比特征的图样。扫描仪提供超精确、无失真的曝光,提供非常干净和均匀的图像。TEL MARK V-Z光刻胶型号还具有一种处理器,可提供出色的化学精度,用于湿法和干法开发。该处理器旨在为难以开发的基板的处理提供一致的数据和高灵敏度。处理器还能够提供曝光后烘烤（PEB）级别和高级光刻算法。TOKYO ELECTRON MARK Vz光刻设备非常适合用于需要极其精确特征的先进技术环境。它为pro ton和电子束光刻提供了经济高效的解决方桉,以便为各种工艺提供高质量的图样。此外,它还提供一系列配置,以满足客户的特定需求。