二手 TEL / TOKYO ELECTRON MARK Vz #9250082 待售

TEL/TOKYO ELECTRON MARK Vz是为了启用先进的紫外线光刻而开发的光刻设备。该系统精密的光刻能力使得实现微电子电路的精确制图成为可能，是生产高性能器件的理想工具。TEL MARK-VZ使用极紫外线（EUV）辐射将图样投射到透明度高、光学像差低、成本低的晶圆上。这项新技术是为了减少传统ALD工艺的光学像差而开发的。TOKYO ELECTRON MARK V-Z的主要部件包括单色EUV光刻源、光刻掩模、光掩模和抗蚀剂处理器。单色EUV光刻源是发射13.5nm短波长辐射的等离子体源阵列。光刻面罩设计为允许EUV辐射的特定光波长通过，以便在抗蚀剂上形成图桉。掩模还充当衍射元件。光掩模是一种不透明的印版,具有基于铬的设计,用于创建所需的图样。抗蚀剂处理器是一种可以控制抗蚀剂的曝光时间、温度和浓度的装置，以实现基板的精确阵列。MARK V-Z也是后开发过程如除渣、溅射或烤箱烘烤，以及内部电极和铅架的理想工具。此外,TEL MARK V-Z是一种高度灵活的机器,允许使用图样化技术,如氧化垫蚀刻和阴影蒙版蚀刻。总体而言，TEL/TOKYO TEL/TOKYO ELECTRON MARK V-Z是一种可靠有效的光刻工具，能够显着提高像素级精度。它是现代芯片生产的理想工具，其准确性、灵活性和可靠性使其成为微电子器件制造商的绝佳选择。