二手 TEL / TOKYO ELECTRON MARK Vz #9386549 待售
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ID: 9386549
晶圆大小: 6"
优质的: 1995
(1) Coater / (2) Developer system, 6"
(4) Spin bodies
Power box
Chemical box
Temperature control unit
T and H (Auxiliary part)
Chuck, 6"
Transfer arm
Centering alignment
Index:
(2) Load ports
25-Slots mapping
Spin coater:
(2) Resist nozzles
PR Nozzle temperature control
Dummy dispense system
Vacuum chuck
Resist suck back
Back rinse nozzle
EBR Nozzle rinse
IWAKI Bellows pump
EBR Back flow meter
Upper and lower cup
Exhaust: Auto damper
Facility drain line
Nozzle moving: Stepping motor
Temperature and Humidity Controller (THC) Coater chamber
Spin motor:
AC Servo motor: 0-5000 RPM, ±2 RPM
Maximum: 5000 RPM
(2) Spin developer:
Develop nozzle temperature control
Vacuum chuck
DI Rinse
Back rinse nozzle
Upper and lower cup
Developer flow meter
Back rinse nozzle
DI Rinse
(4) Hot plates, 6"
PID
PT Temperature sensor
Program time: 0 ~ 990 sec (set 1sec)
Temperature range: 50°C - 180°C
(3) Cooling plates, 6"
PID
PT Temperature sensor
Range: 15°C - 35°C
AD Plate, 6"
PID
PT Temperature sensor
HMDS Vapor chamber cover
HMDS Bubbling tank
Program time: 0 - 990 sec (set 1sec)
Temperature range: 50°C - 180°C
Chemical cabinet:
Photo resist system
Bottle (1 Gal): Trap tank, (2) Nozzles
HMDS Tank: 2.5 L
Thinner: Canister (5 GL)
Developer: Canister (5GL)
1995 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON MARK VZ是一款具有顶级正负光刻技术的光刻设备。该系统使得开发各种应用的抗蚀剂成为可能，特别是那些涉及高分辨率、半导体兼容设计的应用。获得专利的TEL MARK-VZ可以精确形成纳米范围内的图桉。该单元具有基板支架,允许在平台上放置任何大小的样品。其覆盖范围足以容纳巨大的晶片，基板级精度确保定位精度。TOKYO ELECTRON MARK V-Z还包括一个曝光头，具有诺贝尔奖得主的高斯照明光束和适应性强的聚焦位置。这样可以实现更高的准确性和最佳的曝光一致性。在光刻中，MARK V-Z的PATMAX特性保证了图桉精度。它采用最新的进化算法来产生最好的结果。机器还包括自动校准和自动求解等功能，减少了手动步骤，努力减少时间和提高整体效率。此外，干式高反射性照明光学器件还配备了原始HRI超对称反射器（SHR），可提供比现有系统多88倍的光能。这样可以提高曝光分辨率,并大大缩短处理时间。该光学器件还提供了优化的均匀性，使得MARK-VZ最适合于先进的光刻和后端工艺，如晶圆清洗和蚀刻。该工具集成了一个CENTRAL软件套件，它可以方便地控制曝光过程和访问机器的设置。它还为进度评估提供3D视图,并启用高级操作。支持管理多达四个曝光系统,CENTRAL可确保最高的曝光精度。这项来自TEL的新光刻资产利用最新的技术和算法，达到了显着的精度和效率。MARK Vz具有强大的干光器件和高级控制软件套件,可能是要求最苛刻的半导体应用的理想光阻模型。
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