二手 TEL / TOKYO ELECTRON MARK Vz #9399374 待售
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ID: 9399374
(2) Coater / (2) Developer system
(2) Coater:
Main body
Thermo controller rack
Drain box
UPS
Power box
THC
Chemical box 1
(2) Developer:
Main body
UPS
Power Box
Chemical box 2.
TEL/TOKYO ELECTRON MARK Vz是一种新的光刻胶设备，旨在提高光刻胶成像过程的精度和速度。光致抗蚀剂是一种有机或无机材料，用于将图样转移到基材上。TEL MARK-VZ系统由无掩码光刻（MLL）单元和高分辨率投影光学单元组成。MLL单元是该单元中使用的关键设备,能够使用光学重复或单发投影几何形状将图样精确投影到基板上。TOKYO ELECTRON MARK V-Z光刻机的投影光学单元使用先进的数位微镜装置（DMD）来管理小束投影。此DMD利用微小的多角度反射镜来精确调整基板上每个图桉位置的曝光水平和焦距。此调整过程可确保高分辨率成像和精确的曝光控制。投影光学单元的多角镜能够投射可见光的整个光谱，以及紫外线和红外辐射。MARK V-Z光刻工具中的MLL单元还具有场发射显示（FED）投影屏幕。此屏幕可用于精确放置各种大小的图桉和大小。FED投影屏幕也极为明亮，使其适合在光刻中的应用。此外,此MLL单元可与一系列材料配合使用,用于不同的成像过程,包括化学扩增抗蚀剂、化学活化抗蚀剂和耐热剂。除了MLL和投影光学设备外，TEL MARK Vz光阻资产还具有一系列特点，便于成像过程。例如,此模型可以在模式数据库中存储最多35个模式的配方。这样可以确保用户能够快速加载并快速开始映像过程。该设备还采用了自动光学对准工艺，以帮助确保图样在基板表面上精确投影。此外，该系统可以自动调整模式曝光，以便用户可以轻松设置他们需要的曝光时间和水平。总体而言，TEL MARK V-Z光刻机提供了可靠、准确、快速的光刻成像机。它的MLL和投影光学单元能够精确地将图样投射到不同的基板上，而其自动化的光学对准和曝光过程使得设置和运行光致抗蚀剂过程变得容易。此外,用户最多可以存储35种不同的图像处理模式,这使得此工具非常适合低容量和高容量项目。
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