二手 TEL / TOKYO ELECTRON NS 300 #9245729 待售
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TEL/TOKYO ELECTRON NS 300是光刻和薄膜沉积工艺的理想光刻设备。由全球最大的半导体生产设备供应商TEL（TOKYO ELECTRON）制造和供应。该系统具有优化光刻工艺和其他薄膜沉积工艺的几个特点。TEL NS 300可以处理75毫米和150毫米基板，特征控制为2微米。它具有晶圆平整度、轮廓修改和边缘舍入的高级功能。该单元还允许使用精确度为0.5um的紧密覆盖控制。该机采用气体回流技术，减少复杂的空气承载工具问题，确保机械运动平稳一致。该资产由PC控制,图形用户界面模型便于操作。PSM驱动单元提供卓越而快速的移动性。该设备的区域扫描速度高达70毫米/秒,可确保光刻工艺比传统方法更快。可编程的作业控制系统允许对功能和自由形式的移动进行大量定制。它还允许用户探索可编程参数，以确保工艺条件的优化。该单元还拥有一台精度为0.2 um的自动端点检测机，端点基于基板的光信号。TOKYO ELECTRON NS300配备了稳定的离子束源，以减少刀具漂移，确保性能的良好一致性。晶圆座和样品定位级都分别加热和冷却，可以达到200摄氏度的温度。该温度范围对于光刻工艺是最佳的。该资产还具有提供现场实时模拟/演示以帮助设备选择和调试的独特功能。它还配备了预配置的屏蔽激光界面，以进一步优化光束曝光的工艺。该模型是所有先进光刻工艺的一站式解决方桉。它是一种易于使用的设备,具有出色的功能,可确保出色的性能和可靠性。该系统适用于高速晶圆处理，可用于在半导体、印刷电路板、集成电路和微机电系统（MEMS）产品中创造应用。
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