二手 TEL / TOKYO ELECTRON NS 300 #9251833 待售

TEL/TOKYO ELECTRON NS 300是一种高度先进和专业化的光阻设备，用于在基板表面沉积微尺度和纳米尺度的图桉。它是专为用于制造集成电路等设备而设计的，这些设备的沉积模式需要高度的精度。TEL NS 300由三个主要组件组成：计算机控制系统、光束扫描仪和电子束枪。计算机控制单元负责控制光束扫描仪，该扫描仪以连续或阶梯式运动定向和扫描电子束，允许控制光刻沉积模式。电子束枪是一种高强度的装置，产生高精度的电子束。这束电子束随后被定向到基板表面，在那里光致抗蚀剂被沉积。TOKYO ELECTRON NS300 Photoresist Machine提供多功能、高精度的功能化功能。它配备了智能反馈机制，可以检测光束或表面图样特征中的任何缺陷。这允许用户调整光束方向和能量，以确保产生所需的图桉。该工具还配备了多种模式编码方桉，包括一维和二维布局，以提供更通用的沉积能力。除了其先进的功能化能力外，TEL/TOKYO ELECTRON NS300 Photoresist Asset还提供了经济、高分辨率的涂层工艺。这是由于它能够在基板表面沉积一层薄薄的材料，这种材料对基板表面具有极好的附着力。由于模型效率高，过程成本最小化。TEL NS300光刻设备是一个先进的平台,它为使用光刻技术制造设备提供了必要的组件。它具有高度可靠和高效的特点,具有多功能功能和经济高效的高分辨率涂层工艺。