二手 TEMPRESS 420 #104136 待售

TEMPRESS 420是光刻胶系统的一种。它是一种用于蚀刻和凋刻工艺的光刻材料，主要用于半导体器件的制造。420是一种正工作和化学放大的正光抗蚀剂。它抵抗在电磁光谱的紫外线和深紫外线区域的辐射暴露，以及电子束和X射线。TEMPRESS 420具有很高的感光性，具有极好的光速，可用于产生优异的线分辨率。抗蚀剂由于具有较高的抗蚀性溶解速率而形成易于拆卸的抗蚀剂结构，这使得蚀刻工艺更加容易，成本也更低。与传统的光阻系统相比，该抗蚀剂提供了更好的整体性能。420包含两个组成部分。第一种是多酚树脂，它充当稳定器，提供光刻胶改进的光学反射，允许更好的聚焦深度。光致抗蚀剂的另一部分是丙烯酸单体，在暴露过程中聚合。单体分子在受到辐射时膨胀转化为固体，屏蔽下面的微电子基板免受蚀刻或凋刻过程的攻击。当受到辐射时，多酚树脂和丙烯酸单体聚合，在抗蚀剂中形成正像。另外，丙烯酸单体提供了很好的光刻胶与底层晶片的粘合，允许改善蚀刻轮廓和更大的线宽。TEMPRESS 420的另一个优点是它与光刻工艺兼容，允许光刻胶的精确定位。光刻是利用高能辐射在晶圆上产生微电子元素图样的过程。辐射的频率通常较窄，在基板上对非常小的元素进行制图时可以很高的精度。这允许使用非常精确的口罩和精确的图桉，这对于制造复杂的微电子器件是必不可少的。最后，420是一个非常环保的光致抗蚀剂系统，因为它不含有VOCs（挥发性有机化合物），活性成分毒性低。因此，它可以是环保生产设施的首选。总之，TEMPRESS 420是一种正功、化学放大的正光抗蚀剂系统，在刻蚀和刻蚀微电子基板时具有优异的性能。它提供了改进的光速，出色的线路分辨率，以及更好的光刻胶附着到下面的晶片。此外，它与光刻工艺兼容，使其成为复杂图桉的理想选择，而且环保且低毒性。