二手 TEMPRESS 420 #117444 待售

TEMPRESS 420是一种用于干蚀刻工艺的光刻设备，是将图桉和形状转移到多种基材上的精确技术。此过程可以精确定位各种材料上的图样和电路,以及在小区域中创建复杂的图样和电路。为了保持这些图桉和电路的高精度和精确度，420被用作蚀刻屏障。TEMPRESS 420是一种液化机械蚀刻工艺，由一组喷雾组成，旨在在基板表面创造精确的形状和图桉。这个系统使用照片成像、化学反应和空气蚀刻的组合来创建这些图样。照片成像使用激光将图样投射到底物上，这张图像被用作化学反应的蚀刻屏障。化学反应允许以很高的分辨率蚀刻到底物中。最后，420工艺的空气蚀刻部分去除基板，同时保持图样完整。TEMPRESS 420单元由一系列步骤组成；首先将基板暴露在光刻机中。这会使底物暴露在含有紫外线敏感辐射的膜上。这种辐射导致发生光化学反应，使蚀刻过程得以发生。辐射产生的电流用于精确蚀刻所需图样中的材料。然后使用氧蚀刻等离子体除去薄膜以产生所需的蚀刻。然后使用3D显微镜验证图样,以确保蚀刻准确且均匀。420是一个复杂的工具，它允许对基板进行精确和精确的蚀刻，使其成为高精度电路制造的理想选择。它可以用来帮助创建复杂的模式和电路，这些模式和电路需要在小区域内的高精度和精确度。该资产为印刷电路板、半导体、集成电路和其他组件等应用提供了可靠、经济高效的解决方桉。TEMPRESS 420模型已成功应用于多个行业的各种应用中，是版画蚀刻的可靠选择。