二手 TOHO KASEI SD-08 #9280582 待售

TOHO KASEI SD-08光刻系统是一种用于半导体器件制造的高性能、精密的光刻系统。它非常适合先进的器件制造，提供高度的准确性和可重复性，同时在先进的半导体器件生产中获得最高的产量。SD-08使用最新的光刻技术，包括半微米以下的抗蚀性分辨率、均匀性控制和高纯度、无掩码光刻。它还结合了几种材料涂层工艺，包括旋转涂层、喷枪应用和静态喷涂涂层。TOHO KASEI SD-08是一种三合一的无掩模光刻机，由物体保持台、晶圆曝光台和抗蚀剂清除台组成。物体阶段负责物体对准和曝光的准确定位。曝光阶段由两个激光源组成，以193纳米的波长发射激光束，对物体进行微观化学曝光。然后，抗蚀剂去除阶段使用基于硫醇的剥离剂去除暴露的抗蚀剂，只剩下patternedresist保持完整。SD-08为先进的设备生产提供了高度的分辨率和准确性。193纳米激光波长通过实现亚半微米的抗拒分辨率提供了高分辨率。另外，激光的均匀性控制确保相同数量的激光能量指向物体上的每个点，从而产生精确的曝光。最后，无掩码光刻可确保光刻过程不会因掩模不对准或配准不准确而出错。TOHO KASEI SD-08是先进半导体器件生产的理想选择，提供高度的精确度、精确度和分辨率。利用激光源和均匀性控制，SD-08确保通过精确的对准和曝光达到最高产量。其硫醇基剥离剂还可确保快速、方便地去除暴露的抗蚀剂，仅保留所需的图样抗蚀剂。