二手 TRYMAX NEO 2000 #9238169 待售
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ID: 9238169
晶圆大小: 5"-8"
System, 5"-8"
Dual chamber ashing platform
(3) Cassette stations
(2) BROOKS Versaport 2200 Integrated SMIFs
(5) Axis dual arm robots with specific wafer grippers
(4) Process modules:
Microwave downstream (2.45 GHz)
RF Bias (13.56 MHz)
DCP (RF Bias, direct coupling plasma)
Mechanical throughput: > 100 wph
Applications:
Bulk resist strip
Descum processing
Polymer removal
Post high dose implant strip
Silicon nitride etch application
MEMS Application
Compliance:
SEMI S2-01
SEMI S8-01
CE EU-RoHs.
TRYMAX NEO 2000是为精密光掩模铅框处理而开发的领先光阻设备。光敏涂层是TRYMAX与日立化工公司共同开发的，为其用户提供了多项优势。光刻胶有助于防止铅框加工中的扩散、桥接、边缘珠等常见缺陷。这为用户提供了优越的吞吐量和优越的领先帧处理效果。光刻胶系统易于使用，允许用户快速建立预校准、微调参数，并根据产品设计变化的需要进行调整。这样可以确保对每个生产批次的领导框架过程进行最高级别的优化。NEO 2000也是为了保持高精度而设计的。这是通过对铅架层的精确检查和密集的头部压缩来实现的。这有助于确保均匀覆盖层,并有助于减少前导框架缺陷。光致抗蚀剂装置还提供了更强的光掩模防护，以防止光线和其他形式的污染。这有助于延长光掩模的使用寿命,并降低与生产维修相关的成本。此外，光刻机与大多数行业标准的光掩模兼容。这样就不需要用户为每个工作投资单独的光掩码,并有助于降低生产成本。TRYMAX NEO 2000是一种可靠的光阻工具，为用户提供卓越的加工精度和改进的产品质量。凭借其易用性和经济高效的生产能力,它是领导框架处理的绝佳选择。
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