二手 ULTRA OPTICS Mini II #293597469 待售

ULTRA OPTICS Mini II是由ULTRA OPTICS开发，用于精密微图桉的光刻设备。光致抗蚀剂是在暴露于特定电磁辐射（如紫外光）时发生溶解度变化的材料。Mini II提供波长选择性曝光和光化学功能,可在光刻胶表面上创建复杂的图样。该系统使用光源,其光谱可以调整以匹配所需的模式。它可以在曝光范围内提供精确和灵活性,非常适合创建复杂、面向细节的图桉。它还带有一个真空表，以创建具有最小失真的高分辨率模式。单位人性化的设计使其适合在实验室、大学和其他类似设施中使用。该机器可以很容易地针对特定的应用进行定制。有了角度调节特征，可以提供不同的曝光角度。该工具还允许时间控制,以确保曝光的准确性。为方便起见,ULTRA OPTICS Mini II包括可选的自动校准资产。这可以让用户针对各种抗性材料、基材和工艺条件，快速准确地调整曝光。该模型还能够为各种光刻胶提供支持。如果对基板进行适当的预处理，即使是低对比度或高吸收性的材料也可以用设备处理。该系统还能够使用先进的曝光技术，例如冷曝光和深曝光，产生高分辨率模式。Mini II提供可靠的性能和耐用性。这是由于其坚固耐用的设计，以及其优越的轻型单元。设备的稳定性还确保其性能在延长使用期间保持一致。总体而言,ULTRA OPTICS Mini II是在光刻胶表面上创建复杂、详细的微观图桉的理想选择。这台机器提供精确和灵活的曝光范围，以及支持各种光刻。其用户友好的设计和稳健的性能使其适合在实验室、大学和其他类似设施中使用。