二手 ULTRA OPTICS Mini II #9218885 待售

ULTRA OPTICS Mini II是一种光刻设备，利用来自紫外线和可见光源的光在半导体材料上创建光刻图样。该系统设计用于研发实验室，可用于在半导体晶片上创建微观和纳米级模式。该装置使用光致抗蚀剂，一种光敏材料，只允许在暴露于光源的地方发生化学反应。光致抗蚀剂被施加到晶片表面，然后用蒙版曝光。蒙版是金属或SiO2图样,包含所需的光刻图样。曝光后，晶片被开发出来揭示所需的模式。Mini II能够暴露广泛的光刻图桉，并且可以支撑高达8英寸的基板尺寸。它使用180nm至448nm的多个激光源，可以在不同波长之间快速切换。这使得机器可以用于各种光刻项目和不同的分辨率。该工具还具有液晶显示屏,可快速轻松读取。这样可以确保曝光水平正确,并产生正确的模式。ULTRA OPTICS Mini II是一种可靠的资产,它允许在不牺牲质量的情况下创建相对较快的模式。它非常适合需要快速、精确的光刻模式的研发实验室。该模型可与各种光致抗蚀剂一起使用，允许用于不同分辨率的不同项目。