二手 ULTRA OPTICS Mini II #9277326 待售

ULTRA OPTICS Mini II是一种新型的光阻设备，设计用于在各种基板中提供可靠和高精度的微光元件制造。该系统结合了几个组件，创建了一个高效可靠的光阻单元。该机为光学元件的制造提供了良好的网关定义性能和较低的缺陷级别。它具有紧凑的足迹，操作员可以在任何微光制造环境中方便地访问和使用。该工具利用精密的USQ 193nm旋转投影投影资产，为基板提供高分辨率成像。这种旋转模型允许将所施加的光刻胶与基板上的几何形状进行极其精确的对齐。投影设备安装在XYZ台上，以便相对于投影光束聚焦精确定位基板。该系统还利用6-Axis机械臂在所有加工模块之间精确地转移基板。光致抗蚀剂单元采用多射流浸泡流体射流，在基板上方提供高度精确的光致抗蚀剂分配。这一过程减少了过程中的浪费，并确保了光致抗蚀剂的准确应用。一旦施加了光致抗蚀剂，它就会暴露在圆形偏振光下，进行在底物上形成图像所必需的交联反应。然后使用紫外线可见成像机监视交联区域。自动自旋涂层可用于在大型基板上涂抹光致抗蚀剂，提供均匀的应用。该自旋涂层工具集成到MiniII资产中，可实现光刻涂层的自动化应用，提供卓越的工艺可重复性和准确性。最后，通过集成控制设备保证了光刻胶模型的精度。该系统允许操作员使用图形用户界面来控制光刻胶剂量、相机曝光时间、分配速度和旋转速度等参数。这确保了成像过程是可重复和可靠的。综上所述，ULTRA OPTICS Mini II是一种先进的光阻装置，在各种基板上提供高度可靠和精确的微光元件制造。利用精密的USQ 193nm旋转投影机和自动化的多喷射浸入式流体射流，精确地分配了光致抗蚀剂。集成控制工具提供了过程重复性和精度控制，确保了高质量和可靠的制造。