二手 ULTRA OPTICS Mini II #9316392 待售

ULTRA OPTICS Mini II是为微电子元件制造而设计的最先进的光刻设备。该系统是为满足世界领先半导体制造商的要求而设计的，以卓越的均匀性和准确性提供了最高性能。其先进的光学设计提供了卓越的聚焦和强度，其精确的框架确保了元件的精确定位。该单元由一个精确定位框架和一个紫外线源组成，可根据波长和强度进行调节。定位框架设计方便加载、卸载、重新定位，允许灵活的掩模对准。先进的光学设计和精密的电子设备最大程度地减少了模式失真。Mini II能够处理薄膜、厚膜和超细特征分辨率。它提供高通量节点编程，并且可以处理比其他光刻胶系统多五倍的模具。该机包括一系列的口罩和软件工具，以生产质量和均匀性优越的电子元件。先进的工具可以精确编程遮罩图桉，以及将遮罩精确定位到精确定位框架。ULTRA OPTICS Mini II还能够检测到任何掩码未对准,从而可以立即纠正并防止任何进一步的错误。资产的可靠性和卓越的性能使其成为大批量生产应用程序的理想选择。该模型旨在承受恶劣的环境条件,并且可以跨多个过程步骤无缝工作。它的无污染设计还确保以尽可能最好的产量和可靠性一致地生产元件。此外,该设备的设计易于使用,使用户能够快速可靠地创建复杂的组件。该系统还带有可选的自动化组件,例如自动模式调整,以确保产品的一致性。该单元还得到了定期升级和维护的支持，允许用户实现最大的机器性能和可靠性。Mini II是一款经济高效、高性能的光刻工具，旨在满足全球微电子元件制造商的需求。ULTRA OPTICS Mini II凭借其卓越的聚焦、运动和光学设计,确保了卓越的性能和可靠性,使其成为大批量生产应用的理想选择。