二手 ULTRA OPTICS Mini II #9316421 待售

ULTRA OPTICS Mini II是一款功能齐全的光刻设备，用于光刻和薄膜工艺。它非常适合印刷电路板设计、晶圆图桉和OLED制造等应用。该系统利用功能强大但用户友好的软件和精密光学器件产生可靠的结果。该机组拥有快速真空级扫描机，最大速度600 µm/s，分辨率0.17 µm，使得可重复模式得以高速生产。扫描工具还具有快速更换的光学元件,可方便地为不同的目标或过程安装不同的镜头。它还与多种抗蚀膜兼容，包括正负抗蚀剂和光敏聚合物。Mini II还具有多种曝光选项,曝光时间增量短至10毫秒。它有一个直观的设置向导,可简化流程设置,并提供自动曝光控制,同时允许用户微调设置以获得精确的结果。它具有一系列成像能力，如二维场掩蔽，可以快速准确地创建透彻的模式。该资产还配备了先进的模型控制器，以持续监控工艺参数并进行相应调整。它有一个内置的温度和湿度控制设备，以确保均匀曝光。该系统还兼容各种成像处理和检查软件，使其成为一种灵活的制造解决方桉。ULTRA OPTICS Mini II是一种功能强大且易于使用的解决方桉,适用于任何基于光刻胶的生产环境。它为包括印刷电路板设计、晶圆图样设计和OLED制造在内的一系列应用提供了可靠、准确的可重复结果。Mini II具有快速扫描单元、广泛的曝光选项和高效的设置向导,是光刻胶生产的高效且用户友好的选项。